История
Направления
Технологии
Уникальные научные установки
Достижения
Публикации
Программы и гранты
Интеграция с вузами
Образовательная деятельность
Структура
СМУиС
Защита диссертаций
Конференции
Премии, награды
Библиотека
Электронный каталог
Закупки
Годовые отчеты
Отчеты по госконтрактам и соглашениям
Документы
Конкурсы, вакансии
Новости
Персоналии
Телефоны
Реквизиты
Полезные ссылки
Карта сайта
Поиск по сайту





ТЕХНОЛОГИИ И РАЗРАБОТКИ ИНСТИТУТА

ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК С НАКАЛЕННЫМ КАТОДОМ “ПИНК”

Использование плотной однородной плазмы, генерируемой несамостоятельным дуговым разрядом низкого давления с накаленным катодом, является важным фактором интенсификации и стабилизации технологических процессов ионно-плазменного осаждения функциональных покрытий на материалы и изделия.


Плазменный источник с накаленным катодом "ПИНК"

Основные параметры:
Ток разряда10—100 А
Напряжение горения40—60 В
Рабочее давление0,05—1 Па
Концентрация плазмы109—1010 см-3
Габаритыø300—500 мм

Плазмогенератор "ПИНК" может использоваться как независимо для создания плотной однородной плазмы в больших вакуумных объемах, так и использоваться для модернизации промышленных технологических установок (типа ННВ 6.6-И1, ВУ-1Б, ВУ-2 и др.) для реализации комплексных технологий поверхностной обработки изделий, что существенно расширяет технологические возможности серийного оборудования и, соответственно, номенклатуру обрабатываемых изделий.

Области применения:

  • Авиакосмическая промышленность.
  • Автомобилестроение.
  • Нефтегазодобывающая и перерабатывающая промышленность.
  • Инструментальная промышленность.

а также другие отрасли промышленности, где требуются технологии упрочнения и защиты поверхности материалов и изделий.

Использование "ПИНК" позволяет:

  • обеспечить высокую энергетическую эффективность процесса генерации низкотемпературной объемной плазмы;
  • уменьшить долю микрокапельной фракции в потоке плазмы вакуумных электродуговых испарителей;
  • производить плазменную очистку, травление и активацию поверхности без подпыления ее парами материала катода;
  • реализовать комплексную обработку изделий в едином вакуумном цикле, включая процессы финишной очистки, активации, электронно-ионно-плазменного азотирования поверхности и плазменно-ассистированного напыления функциональных покрытий;
  • обеспечить формирование микро- и наноструктурированных покрытий, обладающих высокой твердостью (до 30 ГПа), повышенной (до 2-3 раз) износостойкостью, улучшенной коррозионной стойкостью и имеющих привлекательный внешний вид.

КОРРЕСПОНДЕНЦИЯ


Коваль Николай Николаевич
д.т.н., зав. лаб.

тел.: (3822) 49-27-92
факс: (3822) 49-24-10
E-mail: коval@ opee.hcei.tsc.ru



История | Направления | Технологии | Достижения | Публикации | Программы | Интеграция с вузами | Аспирантура | Партнерство | Структура | СМУиС | Защита диссертаций | Конференции | Премии, награды | Библиотека | Годовые отчеты | Отчеты по госконтрактам | Электронный каталог | Новости | Телефоны | Персоналии | Полезные ссылки | Реквизиты | Поиск по сайту |