ТЕХНОЛОГИИ И РАЗРАБОТКИ ИНСТИТУТА
ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК С НАКАЛЕННЫМ КАТОДОМ ПИНК
Использование плотной однородной плазмы, генерируемой несамостоятельным дуговым разрядом низкого давления с накаленным катодом, является важным фактором интенсификации и стабилизации технологических процессов ионно-плазменного осаждения функциональных покрытий на материалы и изделия. |
|
Ток разряда | 10100 А |
Напряжение горения | 4060 В |
Рабочее давление | 0,051 Па |
Концентрация плазмы | 1091010 см-3 |
Габариты | ø300500 мм |
Плазмогенератор "ПИНК" может использоваться как независимо для создания плотной однородной плазмы в больших вакуумных объемах, так и использоваться для модернизации промышленных технологических установок (типа ННВ 6.6-И1, ВУ-1Б, ВУ-2 и др.) для реализации комплексных технологий поверхностной обработки изделий, что существенно расширяет технологические возможности серийного оборудования и, соответственно, номенклатуру обрабатываемых изделий.
Области применения:
- Авиакосмическая промышленность.
- Автомобилестроение.
- Нефтегазодобывающая и перерабатывающая промышленность.
- Инструментальная промышленность.
а также другие отрасли промышленности, где требуются технологии упрочнения и защиты поверхности материалов и изделий.
Использование "ПИНК" позволяет:
- обеспечить высокую энергетическую эффективность процесса генерации низкотемпературной объемной плазмы;
- уменьшить долю микрокапельной фракции в потоке плазмы вакуумных электродуговых испарителей;
- производить плазменную очистку, травление и активацию поверхности без подпыления ее парами материала катода;
- реализовать комплексную обработку изделий в едином вакуумном цикле, включая процессы финишной очистки, активации, электронно-ионно-плазменного азотирования поверхности и плазменно-ассистированного напыления функциональных покрытий;
- обеспечить формирование микро- и наноструктурированных покрытий, обладающих высокой твердостью (до 30 ГПа), повышенной (до 2-3 раз) износостойкостью, улучшенной коррозионной стойкостью и имеющих привлекательный внешний вид.
КОРРЕСПОНДЕНЦИЯ
Коваль Николай Николаевич
д.т.н., зав. лаб.
тел.: (3822) 49-27-92
факс: (3822) 49-24-10
E-mail: коval@ opee.hcei.tsc.ru